O le aafiaga patino o le coefficient o le faalauteleina vevela i luga o le gaosiga semiconductor.

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I le tulaga o le gaosiga o le semiconductor, lea e tulituliloaina le saʻo atoatoa, o le faʻaogaina o le faʻalauteleina o le vevela o se tasi lea o faʻamaufaʻailoga autu e aʻafia ai le lelei o oloa ma le faʻamautuina o gaosiga. I le faagasologa atoa mai le photolithography, etching i le afifiina, o le eseesega i le faʻalauteleina o le vevela o mea e mafai ona faʻalavelave i le gaosiga saʻo i auala eseese. Ae ui i lea, o le faavae maamora, faatasi ai ma lona ultra-maualalo thermal faalauteleina coefficient, ua avea ma ki i le foia o lenei faafitauli. ;
Fa'agasologa o Lithography: O le fa'aleagaina o le vevela e mafua ai le suiga o mamanu
Photolithography o se laasaga autu i le gaosiga semiconductor. E ala i se masini photolithography, o mamanu o le taamilosaga i luga o le matapulepule o loʻo faʻafeiloaʻi i luga o le fafie ua ufiufi i le photoresist. I le taimi o lenei faagasologa, o le pulega vevela i totonu o le masini photolithography ma le mautu o le laulau faigaluega e taua tele. Ave mea masani uʻamea e fai ma faʻataʻitaʻiga. O lo latou fa'atatau o le fa'alauteleina o le vevela e tusa ma le 12×10⁻⁶/℃. I le taimi o le faʻaogaina o le masini photolithography, o le vevela e faʻatupuina e le puna moli laser, tioata mata ma mea faʻainisinia o le a mafua ai ona siitia le vevela o meafaigaluega i le 5-10 ℃. Afai e fa'aogaina e le laulau faigaluega a le masini lithography se fa'avae u'amea, o le fa'avae 1-mita le umi e mafai ona mafua ai le fa'alauteleina o le fa'aletonu o le 60-120 μm, lea o le a o'o atu ai i se suiga i le tulaga vavalalata i le va o le ufimata ma le wafer. ;
I fa'agasologa o gaosiga (e pei o le 3nm ma le 2nm), o le transistor spacing e na'o ni nai nanometers. O le la'ititi la'ititi o le vevela ua lava lea e mafua ai ona le fetaui le mamanu o le photolithography, e oʻo atu ai i fesoʻotaʻiga transistor e le masani ai, vaʻa puʻupuʻu poʻo taʻavale matala, ma isi faʻafitauli, e iʻu saʻo i le toilalo o galuega faatino. O le fa'alauteleina o le vevela o le fa'avae maamora e maualalo e pei o le 0.01μm / ° C (ie, (1-2) × 10⁻⁶ / ℃), ma o le deformation i lalo o le suiga o le vevela e na'o le 1 / 10-1 / 5 o le uamea. E mafai ona tuʻuina atu se faʻamautu faʻapipiʻi uta mo le masini photolithography, faʻamautinoa le faʻafeiloaʻi saʻo o le ata faʻataʻitaʻiga ma faʻaleleia atili le gaosiga o gaosiga o chip. ;

Etching ma le teuina: Aʻafia le saʻo saʻo o le fausaga
O le togitogi ma le fa'aputuina o faiga autu ia mo le fausiaina o fausaga ta'i tolu-dimensional i luga o le fa'aele'ele. I le faagasologa o le etching, o le kasa reactive e oʻo atu i se faʻalavelave faʻamaʻi ma mea i luga o le wafer. I le taimi nei, o vaega e pei o le eletise RF ma le puleaina o le kesi i totonu o meafaigaluega e maua ai le vevela, ma mafua ai ona siitia le vevela o le wafer ma mea faigaluega. Afai e le fetaui le aofa'i o le fa'alauteleina o le vevela o le va'ava'a po'o le masini masini (o le fa'aputuina o le fa'alauteleina o le vevela o mea silicon e tusa ma le 2.6 × 10⁻⁶ / ℃), o le a fa'atupuina le mamafa o le vevela pe a suia le vevela, e ono mafua ai ni ta'e laiti po'o le pa'u i luga o le papa. ;
O lenei ituaiga o deformation o le a aʻafia ai le loloto o le etching ma le verticality o le puipui o le itu, ma mafua ai le fua o le tootoo togitogi, e ala i pu ma isi fausaga e alu ese mai le manaʻoga. E faapena foi, i le faagasologa o le teuina o ata manifinifi, o le eseesega i le faalauteleina o le vevela e mafai ona mafua ai le atuatuvale i totonu o le ata manifinifi ua teuina, e oo atu ai i faafitauli e pei o le ta'e ma le pa'u o le ata, lea e aafia ai le faatinoga o le eletise ma le faatuatuaina umi o le pu. O le fa'aogaina o fa'avae ma'amora fa'atasi ai ma le fa'alauteleina o le vevela e tutusa ma mea o le silicon e mafai ona fa'aitiitia lelei ai le mamafa o le vevela ma fa'amautinoa le mautu ma le sa'o o le etching ma le deposition process. ;
Laasaga o le afifiina: O le le fetaui o le vevela e mafua ai faʻafitauli faʻalagolago
I le tulaga o le afifiina o le semiconductor, o le fetaui lelei o le faʻalauteleina o le vevela i le va o le pu ma mea faʻapipiʻi (e pei o le epoxy resin, ceramics, ma isi) e taua tele. O le fa'alauteleina o le vevela o le silicon, o le mea autu o tupe meataalo, e maualalo, ae o le tele o mea faʻapipiʻi e maualuga tele. Pe a suia le vevela o le pu i le taimi o le faʻaaogaina, o le a tupu le mamafa o le vevela i le va o le pu ma mea faʻapipiʻi ona o le le fetaui o faʻaopoopoga faʻalauteleina o le vevela. ;
O lenei faʻamaʻi vevela, i lalo o le aʻafiaga o le faʻasolosolo o le vevela (e pei o le faʻamafanafanaina ma le malulu i le taimi o le faʻaogaina o le pu), e mafai ona taʻe ai le vaivai o sooga faʻapipiʻi i le va o le pu ma le mea faʻapipiʻi, pe mafua ai ona paʻu le uaea faʻapipiʻi i luga o le pu, ma iu ai i le toilalo o le fesoʻotaʻiga eletise o le pu. E ala i le filifilia o mea faʻapipiʻi faʻapipiʻi faʻatasi ma le faʻalauteleina o le vevela e latalata i mea o le silicon ma le faʻaaogaina o faʻataʻitaʻiga suʻega maʻa ma le faʻamautuina lelei o le vevela mo le saʻo saʻo i le faagasologa o le afifiina, e mafai ona faʻaitiitia lelei le faʻafitauli o le vevela, faʻaleleia le faʻatuatuaina o le afifiina, ma e mafai ona faʻaumiina le ola tautua o le pu. ;
Fa'atonuga o le siosiomaga: Le fa'amaopoopoina mautu o meafaigaluega ma fale gaosimea
I le faaopoopo atu i le aʻafia saʻo o le gaosiga o gaosiga, o le coefficient o le faʻalauteleina o le vevela e fesoʻotaʻi foi ma le faʻatonutonuina o le siosiomaga atoa o fale gaosi semiconductor. I totonu o aʻoaʻoga tetele o le gaosiga o le semiconductor, o mea taua e pei o le amataga ma le taofi o le faʻaogaina o le ea ma le vevela o fuifui meafaigaluega e mafai ona mafua ai le fesuisuiai o le vevela o le siosiomaga. Afai o le coefficient o le faʻalauteleina o le vevela o le fale gaosimea, faʻavae meafaigaluega ma isi atinaʻe e maualuga tele, o suiga umi o le vevela o le a mafua ai ona taʻe le fola ma faʻaogaina le faʻavae o meafaigaluega, ma aʻafia ai le saʻo o meafaigaluega saʻo e pei o masini photolithography ma masini etching. ;
E ala i le faʻaaogaina o faʻavae maʻamea e lagolago ai meafaigaluega ma tuʻufaʻatasia i mea fau fale falegaosimea ma le faʻalauteleina o le faʻalauteleina o le vevela, e mafai ona fausia se siosiomaga faʻamautu, faʻaitiitia le tele o le faʻavasegaina o meafaigaluega ma tau faʻaleleia e mafua mai i le faʻaleagaina o le vevela o le siosiomaga, ma faʻamautinoa le umi o le faʻaogaina o le laina gaosiga semiconductor. ;
O le aofa'i o le fa'alauteleina o le vevela e fa'asolosolo i le taamilosaga atoa o le gaosiga o le semiconductor, mai le filifilia o meafaitino, fa'atonuga fa'agasolo i le afifiina ma le su'ega. O le a'afiaga o le fa'alauteleina o le vevela e mana'omia ona va'aia lelei i so'otaga uma. O faʻavae o Granite, faʻatasi ai ma le maualuga o le faʻalauteleina o le vevela ma isi mea sili ona lelei, e maua ai se faʻavae faʻavae mautu mo le gaosiga o semiconductor ma avea ma faʻamaoniga taua mo le faʻalauteleina o le atinaʻeina o gaosiga o gaosiga i le maualuga maualuga.