1. Sa'o le fua
Flatness: o le mafolafola o le pito i luga o le faavae e tatau ona oʻo i se tulaga maualuga tele, ma o le mea sese mafolafola e le tatau ona sili atu i le ± 0.5μm i soʻo se 100mm × 100mm eria; Mo le va'alele fa'avae atoa, o lo'o pulea le mea sese i totonu ole ± 1μm. O lenei mea e faʻamautinoa ai o vaega autu o meafaigaluega semiconductor, e pei o le ulu faʻaalia o meafaigaluega lithography ma le laulau suʻesuʻe o masini suʻesuʻe masini, e mafai ona faʻapipiʻiina ma faʻagaioia i luga o se vaalele maualuga, faʻamautinoa le saʻo o le ala opitika ma fesoʻotaʻiga o meafaigaluega, ma aloese mai le fesuiaiga o mea e mafua mai i le vaʻaia o le vaʻa ma le faʻaogaina o le semiconductor.
Fa'asa'o: O le sa'o o pito ta'itasi o le fa'avae e taua tele. I le itu o le umi, o le saʻo saʻo e le tatau ona sili atu i le ± 1μm i le 1m; O le fa'asologa sa'o o le diagonal e pulea i totonu ole ± 1.5μm. Avea ma se fa'ata'ita'iga masini lithography maualuga, pe a alu le laulau i luga o le ta'iala o le fa'avae, o le sa'o o le pito o le fa'avae e a'afia ai le sa'o sa'o o le laulau. Afai o le sa'o e le o'o i le tulaga masani, o le lithography mamanu o le a fa'asese ma fa'aletonu, e mafua ai le fa'aitiitia o le gaosiga o gaosiga.
Faiga tutusa: O le mea sese tutusa o le pito i luga ma le pito i lalo o le faavae e tatau ona pulea i totonu ole ± 1μm. O le tutusa lelei e mafai ona faʻamautinoa le mautu o le ogatotonu atoa o le kalave pe a maeʻa le faʻapipiʻiina o meafaigaluega, ma o le malosi o vaega taʻitasi e tutusa. I totonu o masini gaosi semiconductor wafer, afai e le tutusa le pito i luga ma le pito i lalo o le faavae, o le a faʻapipiʻi le wafer i le taimi o le gaosiga, e aʻafia ai le tutusa o le faagasologa e pei o le etching ma le ufiufi, ma faʻapea ona aʻafia ai le faʻatinoina o le faʻatinoga.
Lona lua, uiga faaletino
Malosi: O le maaa o mea faavae maamora e tatau ona oo atu i le Shore maaa HS70 po o luga. O le maualuga o le maaa e mafai ona tetee lelei i le ofuina e mafua mai i le fegasoloaʻi faifaipea ma feteʻenaʻiga o vaega i le taimi o le faʻaogaina o meafaigaluega, faʻamautinoa e mafai e le faʻavae ona faatumauina se maualuga maualuga pe a uma le faʻaaogaina umi. I totonu o masini faʻapipiʻi masini, o le lima robot e masani ona puʻeina ma tuʻu le pu i luga o le faʻavae, ma o le maualuga o le maaa o le faʻavae e mafai ona faʻamautinoa e le faigofie le faʻaogaina o luga ma tausia le saʻo o le gaioiga o lima robot.
Malosi: Ole mafiafia o meafaitino e tatau ona iai ile va ole 2.6-3.1g/cm³. O le mamafa talafeagai e maua ai e le faavae le mautu lelei, lea e mafai ona faʻamautinoa le lava o le malosi e lagolago ai meafaigaluega, ma o le a le faʻalavelaveina le faʻapipiʻiina ma le felauaiga o meafaigaluega ona o le mamafa tele. I masini su'esu'e semiconductor tetele, fa'amaumau fa'avae e fesoasoani e fa'aitiitia ai le vibration i le taimi o le fa'aogaina o meafaigaluega ma fa'aleleia atili le sa'o.
Fa'amautu fa'avela: fa'ateleina fa'alauteleina laina e itiiti ifo i le 5×10⁻⁶/℃. O meafaigaluega Semiconductor e matua maaleale i suiga o le vevela, ma o le faʻamautuina o le vevela o le faʻavae e fesoʻotaʻi saʻo ma le saʻo o meafaigaluega. I le faagasologa o le lithography, o fesuiaiga o le vevela e mafai ona mafua ai le faʻalauteleina poʻo le faʻaitiitiga o le faʻavae, e mafua ai se faʻalavelave i le tele o le faʻaaliga faʻaalia. O le fa'avae ma'amora fa'atasi ai ma le fa'alauteleina o laina laina maualalo e mafai ona pulea le suiga tele i se la'ititi la'ititi pe a suia le vevela o le masini (e masani lava 20-30 ° C) e fa'amautinoa ai le sa'o o le lithography.
Tolu, tulaga lelei o luga
Roughness: O luga ole roughness Ra tau ile faavae e le sili atu i le 0.05μm. O le ultra-smooth surface e mafai ona faʻaitiitia ai le faʻaogaina o le pefu ma le faʻaleagaina ma faʻaitiitia ai le aʻafiaga i luga o le mama o le siosiomaga gaosiga o chip semiconductor. I totonu o le faleaoga e leai se pefu o le gaosiga o chip, o mea laiti e mafai ona oʻo atu ai i faʻaletonu e pei o le puʻupuʻu o le vaʻa, ma o le lamolemole o le faʻavae e fesoasoani e tausia ai se siosiomaga mama o le faleaʻoga ma faʻaleleia le gaosiga o chip.
Fa'aletonu laititi: O luga o le fa'avae e le fa'atagaina ona i ai ni ta'e va'aia, pu oneone, pores ma isi fa'aletonu. I le tulaga microscopic, o le numera o faaletonu ma le lautele sili atu i le 1μm i sikuea senitimita e le tatau ona sili atu i le 3 e electron microscopy. O nei faaletonu o le a aʻafia ai le malosi faʻatulagaina ma luga o le faʻavae o le faʻavae, ona aʻafia ai lea o le mautu ma le saʻo o meafaigaluega.
Fa, mautu ma tete'e tetee
Malosiaga mautu: I totonu o le siosiomaga vibration simulated faia e ala i le faagaoioiga o meafaigaluega semiconductor (vibration frequency range 10-1000Hz, amplitude 0.01-0.1mm), o le suiga o le vibration o ki mounting points i luga o le faavae e tatau ona pulea i totonu ± 0.05μm. Aveina o meafaigaluega suʻega semiconductor e fai ma faʻataʻitaʻiga, pe afai o le masini lava ia ma le siʻosiʻomaga vibration e tuʻuina atu i le faʻavae i le taimi o le taotoga, o le saʻo o le faailo o le suʻega e ono faʻalavelaveina. Le mautu malosi lelei e mafai ona mautinoa fa'ai'uga su'ega.
Tete'e mafui'e: O le faavae e tatau ona i ai se faatinoga sili ona lelei, ma e mafai ona vave attenuate le malosi vibration pe a oʻo i le faʻafuaseʻi vibration fafo (e pei o seismic galu simulation vibration), ma ia mautinoa o le tulaga sootaga o vaega autu o le meafaigaluega suia i totonu ± 0.1μm. I totonu o fale gaosi semiconductor i nofoaga mafui'e, e mafai ona puipuia lelei mafui'e fa'avae meafaigaluega semiconductor taugata, fa'aitiitia le lamatiaga o le fa'aleagaina o masini ma fa'alavelave fa'atupu ona o le vibration.
5. Mautu vailaʻau
Corrosion tetee: O le maamora faavae e tatau ona tetee atu i le corrosion o sui vailaau masani i le faagasologa o le gaosiga o le semiconductor, e pei o le hydrofluoric acid, aqua regia, ma isi. Ina ua uma ona soaking i le vaifofo hydrofluoric acid ma vaega vaega tele o le 40% mo le 24 itula, e le tatau ona sili atu i le 0.01% le maualuga o le maualuga o le gau; Fa'asusu i le vai regia (volume ratio o le hydrochloric acid i le nitric acid 3:1) mo le 12 itula, ma e leai ni fa'ailoga manino o le pala i luga. O le gaosiga o le gaosiga o le semiconductor e aofia ai le tele o vailaʻau faʻamaʻi ma faʻamama faʻagasologa, ma o le lelei o le corrosion teteʻe o le faavae e mafai ona faʻamautinoa e le faʻaleagaina le faʻaaogaina umi i le siosiomaga vailaʻau, ma o loʻo tausia le saʻo ma le faʻamaoni faʻavae.
Anti-filogia: O le mea faavae e matua maualalo lava absorption o pollutants masani i le siosiomaga gaosiga semiconductor, e pei o kasa organic, ion uʻamea, ma isi. Pe a tuu i totonu o se siosiomaga o loo i ai 10 PPM o kasa organic (eg, benzene, toluene) ma 1ppm o ion uʻamea (eg, ion kopa, ion uʻamea, o le faatinoga o le 72 ion uʻamea) mo le faʻatinoga o le 72 faʻavae poʻo. e faatauvaa. O le mea lea e taofia ai mea leaga mai le femalaga'i mai le pito i luga i le nofoaga e gaosi ai chip ma afaina ai le tulaga lelei o chip.
Taimi meli: Mati-28-2025